1. 采用混合稀土作为原料，经氟化焙烧制成的白色抛光粉，通用性强，可用于多种光学元件，晶体，高精度要求的平板玻璃等抛光。

2. 平均粒度1.0-1.4μm，最大颗粒小于9μm，可满足多种产品的精度要求。

3. 抛光速度快，颗粒耐磨性好；悬浮性好，且易清洗。

【性能指标】

（1）可适用于材质较软的光学元件的球面加工以及晶体等；

（2）可适用于平面高抛的终道抛光。